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產(chǎn)品分類
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解析高純?cè)噭┮约案呒冊(cè)噭┓诸?/span>
  • 更新日期:2023-04-14      瀏覽次數(shù):729
    • 純度遠(yuǎn)高于優(yōu)級(jí)純的試劑叫做高純?cè)噭J窃谕ㄓ迷噭┗A(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的,是為了專門的使用目的而用特殊方法生產(chǎn)的純度最高的試劑。高純?cè)噭┛刂频氖请s質(zhì)項(xiàng)含量,基準(zhǔn)試劑控制的是主含量,基準(zhǔn)試劑可用標(biāo)準(zhǔn)溶液的配制,但高純?cè)噭┎荒苡糜跇?biāo)準(zhǔn)溶液的配制(單質(zhì)氧化物除外)。


      目前在國(guó)際上也無(wú)統(tǒng)一的明確規(guī)格,我國(guó)除對(duì)少數(shù)產(chǎn)品制定了國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)外,大部分高純?cè)噭┑馁|(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)還很不統(tǒng)一,在名稱上也有高純、超純、特純、光譜純、電子純等不同叫法。一般以9來(lái)表示產(chǎn)品的純度。故在規(guī)格欄中標(biāo)以2個(gè)9、3個(gè)9、4個(gè)9以此類推,根據(jù)這個(gè)原則可將高純物質(zhì)分為:


      雜質(zhì)總含量不大于1.5×10-2%,其純度為3.5個(gè)9(99.95)簡(jiǎn)寫為3.5N


      雜質(zhì)總含量不大于1.0×10-2%,其純度為4個(gè)9(99.99)簡(jiǎn)寫為4.0N


      雜質(zhì)總含量不大于1.0×10-3%,其純度為5個(gè)9(99.999)簡(jiǎn)寫為5N


      對(duì)高純?cè)噭┗蚋呒冊(cè)丶兌然螂s質(zhì)含量的檢驗(yàn),一般常用原子吸收光譜、原子發(fā)射光譜、色譜、質(zhì)譜比色化學(xué)分析等方法進(jìn)行測(cè)定。其陰離子規(guī)格原則上參照試劑優(yōu)級(jí)標(biāo)準(zhǔn),沒(méi)有優(yōu)級(jí)標(biāo)準(zhǔn)的產(chǎn)品由生產(chǎn)單位自行制定。根據(jù)用途不同,把高純?cè)噭┯址殖蓭状箢悾?/span>


      普通離純?cè)噭?/span>

      是指一些高純單質(zhì)金屬、氧化物、金屬鹽類等,常用于原子能工業(yè)材料、電子工業(yè)材料、半導(dǎo)體基礎(chǔ)材料等,金屬單質(zhì)的氧化物、用來(lái)配制標(biāo)準(zhǔn)溶液和作為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì),該類試劑常要求含量在4N-6N之間。


      超凈電子純?cè)噭?/span>

      超凈高純?cè)噭┦羌呻娐罚↖C)制造工藝中的專用化學(xué)品,用于硅片清洗、光刻、腐蝕工序中。對(duì)這種高純?cè)噭┲锌扇苄噪s質(zhì)和固態(tài)微粒要求非常嚴(yán)格,為適應(yīng)IC集成度不斷提高的需求,國(guó)際上半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會(huì)(SemiconductorIndustryAssociation)近來(lái)推出Semic7(適合0.8-1.2微米工藝技術(shù))和Semic8(適合于0.2-0.6微米工藝技術(shù))級(jí)別的試劑質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。我國(guó)在原有MOS級(jí)、BV-I級(jí)試劑的基礎(chǔ)上,又制定出BV-II級(jí)和BV-III級(jí)試劑標(biāo)準(zhǔn)(相當(dāng)于Semic7)。我研究所也研制多種MOS級(jí)、BV-I級(jí)BV-II級(jí)和部分BV-III級(jí)試劑,其顆粒度(0.5微粒顆粒)≤25-100個(gè)∕ml,金屬雜質(zhì)總量≤10-3—10-5﹪


      光刻膠高純?cè)噭?/span>

      光刻工藝是一種表面加工技術(shù),在半導(dǎo)體電子器件和集成電路制造中占有重要地位。為在表面實(shí)現(xiàn)選擇性腐蝕,采用一類具有抗蝕作用的感光樹(shù)脂材料作為抗蝕涂層,稱為抗蝕劑,國(guó)內(nèi)通稱光刻膠。按照溶解度的不同而將光刻膠分為“正性"光刻膠和“負(fù)性"光刻膠,按所用曝光光源和輻射光源的不同,又可將其分為紫外、遠(yuǎn)紫外、電子束、X射線等光刻膠。

      光刻膠是微細(xì)圖形加工的一種關(guān)鍵試劑,要求水分低、金屬雜質(zhì)含量低(≤10-6)


      磨拋光高純?cè)噭?/span>

      是指用于硅單晶片表面的研磨和拋光的高純度試劑。它又分磨粉(三氧化二鋁)和磨液(水和油劑),能研磨表面達(dá)到微米級(jí)加工精度。這類試劑要求顆粒粒度?。{米),純度高,金屬雜質(zhì)一般要求2.0×10-4—5×10-5﹪


      液晶高純?cè)噭?/span>

      液晶是一類電子化學(xué)材料,是指在一定溫度范圍內(nèi)呈現(xiàn)介于固相和液相之間的中間相的有機(jī)物。它既有液態(tài)的流動(dòng)性也有晶態(tài)的各向異性,有時(shí)人稱他為第四態(tài)。


      液晶種類繁多,用途廣,前景最大的要屬TN(低檔)、STN(中高檔)、TFT(高檔)型。TN、STN及TFT三種型號(hào)所組成的單體液晶,主要包括芳香酯類、聯(lián)/苯類、苯基環(huán)已烷類、鐵電類以及含氟液晶品等五種,它們是當(dāng)今及今后使用及發(fā)展的主要對(duì)象。這類高純?cè)噭┮蠛扛撸ā?9﹪),水分含量低(≤10-6),金屬雜質(zhì)含量少(≤10-6)。